前段制程：

 光刻设备（黄光制程）

 曝光设备：步进式光刻机，扫描式光刻机

 尼康，佳能，阿斯麦 ASML

 曝光设备：

 尼康，苏斯微技术（SUSS Microtec)

 涂胶显影设备：

 迪恩斯（DNS) ,东京电子（ TEL)

 干式蚀刻设备（灰化）

 干蚀刻机：

 应用材料（AMAT) , 泛林半导体（LAM) ,东京电子（TEL), 日立